海外参展,你知道如何应对知识产权风险吗?

西方企业经常运用知识产权保护其市场或运营盈利,将竞争对手排除在市场之外。例如,中国企业赴美参展,如果产品被他人知识产权覆盖,则构成进口、销售,或许诺销售侵权产品的行为,可能会面临在联邦地区法院及美国国际贸易委员会的知识产权诉讼。知识产权诉讼会给企业带来金钱、市场及商业机会上的巨大损失。例如,企业可能会赔偿专利权人几百万甚至更高的侵权赔偿,故意侵权时需要支付高达3倍的侵权赔偿,甚至包括对方的律师费用。
知识产权风险是可以减小,甚至避免的。中国企业在参展前,可以对参展产品进行“自由运作”(Freedom to Operate)的尽职调查,对竞争对手,尤其是参展竞争对手的专利进行分析研究,并设法绕过这些专利。特别是当同类产品已经引起诉讼时,中国企业可以查看诉讼信息,了解哪些专利已被卷入诉讼。另外,中国企业可以通过搜索展会所在国的专利数据库自己分析研究,或者聘请有丰富经验的该国专利律师发掘障碍专利并分析其参展产品的侵权风险。在美国,当分析结果对企业有利时,美国专利律师可以出具不侵权的书面法律意见。中国企业善意地依赖于有资质的美国律师合理、有据的不侵权法律意见,会有效降低被判定直接故意侵权及间接侵权(辅助、诱导侵权)的风险。
根据尽职调查的分析结果,中国企业可以对产品进行专利规避设计,降低侵权或故意侵权的风险。美国一些法院、陪审团会根据被告对专利进行规避设计(如在产品上删除被控侵权功能)的努力,做出不侵权或非故意侵权的认定。规避设计也可以帮助中国企业的研发、创新提供思路。
如果专利很难被无效、规避设计或成本太高,中国企业可以在没有对产品投产或进入展会所在国市场前,考虑与专利持有人谈判,以合理的价格获得专利许可。中国企业如果有对方需要的专利,可以通过交叉许可,到该国参展及进入该国市场。
此外,中国企业还可以自己或通过第三方搜索先有技术,然后聘请有丰富经验的展会所在国专利律师在该国专利局对障碍专利提起无效程序,釜底抽薪,彻底消除该专利带来的风险。例如,中国企业可以在美国专利商标局提起单方复审、授权后复议、商业方法专利的授权后复议和双方复议。其中,授权后复议、商业方法专利的授权后复议和双方复议是美国专利法2012年修订后新的无效程序,与在法院通过诉讼进行专利无效相比,花费时间短(立案后仅1年)、费用低(大约是法院诉讼费用的1/10)、成功率高(立案后撤销专利权利要求高达70%以上)。此外,通过美国专利商标局的无效程序,中国企业可以请求中止在法院进行的诉讼,降低诉讼成本,也可以迫使专利权人以更合理的价格给予许可,从而达成和解。
中国企业避免设计生产的产品造成专利侵权,需要确保参展产品不拥有过多竞争对手专利权利要求中所包含的设计特征,避免商标纠纷需要搜索与参展产品考虑使用的商标相类似的商标,以及避免使用可能引起混淆的相似性的商标。展会所在国的专业律师可以提供以上帮助。
避免商业秘密和版权问题相对简单。这类问题是由抄袭引起的,所以避免企业员工抄袭可消除这些风险。
最重要的一点是,中国企业在参展前应该咨询展会所在国的专业律师,对知识产权风险进行分析和评估,并采取相应措施,把风险降到最低。企业还须制定应急方案,在面临他人维权、申请法院临时禁令时,由律师马上出面,及时应对,减少损失